晶合整合研發的半導體掩模版成功亮相，這不僅填補了安徽省在掩模版領域的空白，也進一步提升了本土半導體的競爭能力。掩模版被譽為光刻機的「心臟」，直接決定了新芯片的效能和良率，雖然這次突破的是僅能夠提供28-150納米的光刻掩模版服務，在國內已經是除了台積電，中芯國際之後的第三名。也奠定了咱們國家在光刻機領域攀登更高峰的基礎。
掩模版就像是光刻機的「圖紙」。設計師在電腦上畫好的芯片圖案，會被轉移到掩模版上。當光刻機工作時，它會用一束光「照」在掩模版上，然後這些圖案就像影子一樣，被「印」到矽片上的光刻膠上。矽片上就被刻下了芯片的基本形狀。沒有掩模版，光刻機就像沒有底片的相機。因此掩模版是光刻機工作中不可或缺的一部份。它的精度和質素，直接決定了光刻出來的芯片圖案好不好，進而影響芯片的效能和良率。
晶合整合這次成功研發出具備28-150納米精細制程能力的掩模版，對咱們國家來說具有重要意義。意味著我們在掩模版技術上達到了國際先進水平，不再是外國企業的「跟屁蟲」。不僅讓我們有了自己的掩模版，而且完全實作了自主可控。有了自己的掩模版技術，我們就可以更加自主地生產芯片，不用擔心被外國卡脖子。
這次突破最核心的意義是將推動國產光刻機往更高精度，更先進工藝制程上前進了一大步。必將推動純國產光刻機邁向更高的高度。為我們未來在芯片領域的獨立自主，不受制於人奠定了基礎，雖然目前只是具備28-150納米的掩模能力，但是隨著我們研發的持續推動，整個行業的快速發展，突破7納米，5納米也是一種必然。
自從國內芯片產業被制裁之後，中國的科研團隊用分工合作的方式在推動國產光刻機的發展，我們不僅僅突破了最新，最先進的光源，我們也突破了光刻膠技術，再加上掩模版技術的突破，事實上我們已經具備了完整生產一台純國產光刻機的能力，這是中國科技的驕傲，也比較推動中國芯片產業鏈的整體發展。
這個地球上存在的所有高科技，只要是人造出來的，中國人完全有能力搞出來！
