晶合集成研发的半导体掩模版成功亮相，这不仅填补了安徽省在掩模版领域的空白，也进一步提升了本土半导体的竞争能力。掩模版被誉为光刻机的「心脏」，直接决定了新芯片的性能和良率，虽然这次突破的是仅能够提供28-150纳米的光刻掩模版服务，在国内已经是除了台积电，中芯国际之后的第三名。也奠定了咱们国家在光刻机领域攀登更高峰的基础。
掩模版就像是光刻机的「图纸」。设计师在电脑上画好的芯片图案，会被转移到掩模版上。当光刻机工作时，它会用一束光「照」在掩模版上，然后这些图案就像影子一样，被「印」到硅片上的光刻胶上。硅片上就被刻下了芯片的基本形状。没有掩模版，光刻机就像没有底片的相机。因此掩模版是光刻机工作中不可或缺的一部分。它的精度和质量，直接决定了光刻出来的芯片图案好不好，进而影响芯片的性能和良率。
晶合集成这次成功研发出具备28-150纳米精细制程能力的掩模版，对咱们国家来说具有重要意义。意味着我们在掩模版技术上达到了国际先进水平，不再是外国企业的「跟屁虫」。不仅让我们有了自己的掩模版，而且完全实现了自主可控。有了自己的掩模版技术，我们就可以更加自主地生产芯片，不用担心被外国卡脖子。
这次突破最核心的意义是将推动国产光刻机往更高精度，更先进工艺制程上前进了一大步。必将推动纯国产光刻机迈向更高的高度。为我们未来在芯片领域的独立自主，不受制于人奠定了基础，虽然目前只是具备28-150纳米的掩模能力，但是随着我们研发的持续推动，整个行业的快速发展，突破7纳米，5纳米也是一种必然。
自从国内芯片产业被制裁之后，中国的科研团队用分工合作的方式在推动国产光刻机的发展，我们不仅仅突破了最新，最先进的光源，我们也突破了光刻胶技术，再加上掩模版技术的突破，事实上我们已经具备了完整生产一台纯国产光刻机的能力，这是中国科技的骄傲，也比较推动中国芯片产业链的整体发展。
这个地球上存在的所有高科技，只要是人造出来的，中国人完全有能力搞出来！
