國產的氟化氬光刻機出來後，包括業界和民間都給出了不同的反應，驚訝焦慮和質疑不斷。近日台積電的前研發處處長楊光磊說：「大陸制造的氟化氬光刻機當然可以制造8nm制程的芯片，因為台積電的第一代的7nm芯片也是沒有用EUV光刻機做出來的，所以大陸的光刻機做8nm芯片理論是沒有問題的，只不過他的良率和功能效能有多少還需要驗證。」並且光刻機巨頭，荷蘭阿斯麥的老總也從原來的不屑到現在的不得不重視。
而從國家工信部最新公布的國產65nm氟化氬光刻機數據看，193nm波長65nm分辨率，可以做到≤8nm套刻精度。至於到底做幾納米，只能這麽說配多次曝光可做8nm芯片，相對來說成本會很高。但國內主戰場還是28nm芯片，所以穩定這個再做突破才是最靠譜的。而且其實從他們的話裏可以基本確定，我們確實有了自主制造8納米芯片的能力。只不過還存在一些缺陷，但假以時日，中國的高端光刻機技術完全不是問題。
以我一個外行人來說，這高級貨做出來就很不簡單了，華為看到的是與世界最先進的差距，可世界看到的是一個了不起的中國！還沒有哪個國家憑一己之力獨自做出光刻機，但中國辦到了。但是輿論上真正拖後腿的還是愚昧無知的老百姓，台積電的專家說可以制造8納米。但網友堅決說只可以制造65納米。其實到底能做幾納米已經根本不用猜了，從華為的麒麟9000開始，不是已經很清楚了嗎。正如阿斯麥說的一樣，阿斯麥的每一台光刻機都可以控制的，是不可能給華為造芯片的。但是華為的芯片只是一面旗幟，可以造要普及開來還需要一段時間。就像近期華為釋出的三折疊手機一樣，概念機友商都能造，但要量產就不行了。
這也標誌著美國對華高新技術封鎖再次失敗，而且每封鎖一次其反噬效應越大。美國的技術優勢正在一步一步的喪失，隨著光刻機技術的突破，整個芯片產業，將會發生翻天覆地的變化，半導體行業將會發生翻天覆地的變化。所以，國產光刻機是集大家的努力出來的，是我們的高科技研發人員夜以繼日的奮鬥結果。暫時的不完善和不先進沒關系，只要從0變為1，一切都會越來越好。
任何國家在發展高科技產品上面都是摸著石頭過河，從無到有從易到難，從繁入簡的過程。盾構機、大運、高鐵、空間站、航母等等，大國想要做的事情還有什麽做不到呢？我們正視差距不驕不躁，只要方向對了，接下來攻破這些技術難題只是時間問題了。
