台积电取得光阻组成物及形成光阻图案的方法专利，能实现形成光阻图案的方法

2024-04-29台海

金融界2024年4月29日消息，据国家知识产权局公告，台湾积体电路制造股份有限公司取得一项名为「光阻组成物及形成光阻图案的方法「，授权公告号CN110955112B，申请日期为2019年9月。

专利摘要显示，一种光阻组成物及形成光阻图案的方法。形成光阻图案的方法包括：形成上方层于基板上的光阻层上方，上方层包含漂浮添加物聚合物；选择性曝光光阻层至光化辐射；显影光阻层，以在光阻层中形成图案；以及移除上方层。漂浮添加物聚合物为硅氧烷聚合物。