台積電取得光阻組成物及形成光阻圖案的方法專利，能實作形成光阻圖案的方法

2024-04-29台海

金融界2024年4月29日訊息，據國家知識產權局公告，台灣積體電路制造股份有限公司取得一項名為「光阻組成物及形成光阻圖案的方法「，授權公告號CN110955112B，申請日期為2019年9月。

專利摘要顯示，一種光阻組成物及形成光阻圖案的方法。形成光阻圖案的方法包括：形成上方層於基板上的光阻層上方，上方層包含漂浮添加物聚合物；選擇性曝光光阻層至光化輻射；顯影光阻層，以在光阻層中形成圖案；以及移除上方層。漂浮添加物聚合物為矽氧烷聚合物。