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美国芯片法案大获成功?将生产近三成先进芯片,中国仅有2%

2024-05-11台海

一块芯片可以承载数十亿个晶体管,却改变全球的产业版图。2022年,美国通过了一项芯片法案,拿出390亿美元用于补贴国内的芯片制造业,给国内的厂商分发「红包」,让他们安心在家建厂。这个大礼包的目的很明确,就是想摆脱对亚洲地区芯片供应链的依赖。

亚洲,一直是全球芯片制造的中心,美国、日本、韩国和中国台湾都在这片广袤的大陆上排兵布阵。通过这项法案,美国打算把部分芯片产能拉回本土。

芯片法案的诱人补贴很快吸引了全球三大芯片巨头台积电、英特尔和三星的目光。他们已经承诺在美国本土建造最先进的生产线,预计在未来10年里,将让美国的全球芯片市场份额从2022年的10%提高到14%。

至于10纳米以下的先进芯片,得益于这些厂商的进驻和承诺生产,美国将占据全球28%的市场份额。尽管这仍然无法与亚洲地区抗衡,但已经在稳步打破对亚洲地区的依赖。

这三家公司不是随便承诺的,政府送出的「红包」让他们愿意更进一步。台积电原本只想在美国生产3纳米芯片,但拿到66亿美元的补贴后,决定在亚利桑那州工厂生产2纳米芯片。

三星则在德克萨斯州的工厂投入巨资生产2纳米芯片,这可是他们在本土之外的首批高端产品。

与此同时,中国大陆的芯片行业正面临一系列挑战。尽管政府同样提供大量补贴,然而技术和设备的差距使得国内厂商难以与全球领先的芯片制造商竞争。

目前,华为已利用国内厂商的7纳米工艺生产了一些芯片,所使用的设备主要依赖荷兰ASML的深紫外(DUV)光刻机。然而,这类光刻机制造的芯片成本高,效率不如其他厂商的7纳米产品。

国内大多数芯片制造商还只能专注于成熟工艺,在10纳米以下的先进工艺上几乎无法施展拳脚。

更糟糕的是,没有先进的EUV光刻机,国内厂商无法突破技术瓶颈,也难以在先进芯片领域提升市场份额。能否从这片阴影中杀出一条血路,仍是未知数。

国内厂商的设计能力其实并不差,甚至可以说具备国际水平。然而,制造领域的设备短板限制了他们的发挥,光刻机的缺乏就像一堵墙,把芯片产业的发展道路拦腰截断。

没有EUV光刻机,国内厂商只能依赖DUV光刻机的技术,继续开发7纳米芯片,而这种工艺成本高昂,可能在未来市场竞争中处于不利位置。

然而,这并非全然没有希望。通过对设备和技术的不断研发和投资,国内芯片产业在未来有可能迎头赶上。在此过程中,如何解决供应链的问题、取得更多的自主权、降低对海外设备的依赖,都是亟需应对的挑战。

芯片法案让美国在全球半导体产业中站稳脚跟,确保未来十年内先进芯片的供应不再过度依赖亚洲。然而,全球竞争的帷幕刚刚拉开,挑战和不确定性依然存在。美国的产业布局虽优势明显,但亚洲依旧凭借其技术积累和供应链优势保持领先。

对于中国大陆来说,先进芯片制造的技术差距可能难以在短期内弥补,设备的依赖也将持续。要想真正摆脱对海外设备的依赖,实现自主研发,可能需要更长的时间和大量的资金投入。

这一过程不容乐观,许多观点认为,如果在2025年之前无法取得重大突破,将来赶超的难度只会更大。面对这条曲折的道路,国内芯片产业需要坚持自主创新,寻找属于自己的战略定位,在全球芯片产业中开辟新的机会和未来。