導讀
最近輝達暫停p0芯片訂單的訊息一出，立刻引發了大家的熱議！這不僅關乎到東方大國在半導體領域的未來發展，也讓我們對美國的出口管制政策產生了更多的猜想。究竟這一決定背後隱藏著怎樣的產業邏輯？讓我們一起深入探討！
輝達暫停p0芯片訂單
近期有訊息稱，輝達暫停接收東方大國客戶對p0芯片的新增訂單，訊息一出便引起了行業的熱議，很多人認為這可能是美國出口管制政策的影響，輝達不得不對自己的芯片產品進行審視。
從產品層面來看，p0芯片是輝達旗下一款非常重要的產品，專門為數據中心打造，針對人工智慧等多種套用場景進行了最佳化，效能非常強悍。
我們之所以關心這款產品在東方大國的套用情況，主要是因為東方大國的半導體制造能力一直備受關註，尤其是近幾年，在國家政策的大力支持下，各種自主研發的計畫層出不窮，取得了很多階段性的成果。
但是我們要清楚地認識到，雖然這項技術已經出現在了理論上，但是實際的生產制造過程中仍然存在很多問題，最典型的就是良率問題。
良率問題可以說是制約半導體制造發展的雞生蛋、蛋生雞問題的核心內容，雖然我們透過各種途徑不斷提高良率，但是總有新的雜質、新的幹擾會出現，影響芯片的整體品質。
我們之所以如此關註輝達暫停p0芯片接單的訊息，就是希望從中能夠找到一些對東方大國有益的啟發。
EUV光刻機
前段時間我們一直在討論ASML的EUV光刻機，這是一項非常核心的技術，也是制約東方大國半導體產業發展的重要因素之一。
因為ASML公司將核心光學部件的生產全部交給了蔡司這家公司，所以我們即便是有資金買EUV光刻機，也很難得到相關的產品。
即便我們自己研發出了EUV光刻機，但是其核心部件卻必須依賴於人家的技術，這樣一來我們就難以真正做到自主創新。
你可能會說，那我們為什麽不去研究這些核心部件呢？其實這其中的研究投入是非常龐大的，而且由於材料、工藝的保密程度很高，很難得到有效的研究方向。
我們知道2奈米EUV光刻機由多個重型部件構成，在研發的過程中投入巨大，但是收獲相對來說比較確定，因為這項技術有著非常明顯的理論支持。
與此相比，多次曝光技術就顯得要困難得多了，因為這項技術幾乎沒有什麽理論支持，全靠工程師的經驗和勇氣。
所以我們急需出現國產曝光機，進而帶動國產曝光膠、光刻機等裝置和材料的研發。
華為芯片制造
近日輪值董事長徐誌軍在華為全聯接大會2024上承認了華為在芯片制造方面遇到的困難。
他表示東方大國在芯片制造方面確實還有很長的路要走，這也直接阻礙了華為開發先進計算解決方案的能力。
他還強調美國對人工智慧芯片的制裁對我們的工藝水平產生了很大影響，華為現在正在努力與台積電合作，在8奈米工藝上取得了一些進展。
但是台積電也明確表示，他們認為東方大國在中美競爭的人工智慧芯片領域還有很多要做，華為與台積電在此事上存在分歧。
這說明華為雖然是看到了自己與西方公司存在競爭上的差距，並且已經開始加大投入進行自我修補，但是仍然存在認知上的偏差。
光刻機
近期有台專家表示，國產光刻機已經具備了生產8奈米制程芯片的理論能力。
他還討論了多次曝光技術，在8nm制程上完全可以勝任，並且他也非常看好這項技術的未來。
確實給人們帶來了希望，在國產氟化氬光刻機問世之後更是掀起了行業的熱潮。
根據官方公布的數據顯示，這款光刻機的分辨率≤65nm，套刻≤8nm，在國際上也是非常領先的水平。
目前它已經可以勝任28nm工藝芯片的量產任務了，而且最令人振奮的是它實作了套刻≤8nm這項技術中華民族自主完成的突破。
我們知道DUV浸沒式光刻機一直是國內短板中的短板，在中低端芯片市場我們已經很久沒有聽聞好訊息了。
所以這次國產氟化氬光刻機問世對於整個行業來說都是一個非常令人振奮的訊息。
畢竟高端芯片制造能力才是一個國家真正硬氣的資本，只有掌握了先進工藝和生產裝置，我們才能真正做到望塵莫及。
結語
從輝達的暫停訂單到華為的芯片制造困境，這一系列事件無疑在提醒我們，半導體產業的自主創新之路任重而道遠。我們不僅要看到國產光刻機的進步，更要猜想如何突破技術壁壘。你怎麽看待當前的半導體局勢？歡迎在評論區分享你的觀點，別忘了點贊支持一下哦！
